Установка нанесения и задубливания фоторезиста LCS-C-B

Главная /// Фотолитография /// Установка нанесения и задубливания фоторезиста LCS-C-B

Установка предназначена для нанесения и сушки фоторезиста и других полимерных материалов. Модули нанесения и сушки смонтированы на единой столешнице и имеют независимое управление.

Особенности

Обработка пластин диаметром до 200 мм
Удобное сенсорное управление
До четырех независимых линий дозирования
Независимая работа модулей нанесения и задубливания
Установка может быть сконфигурирована под процесс Заказчика

Модуль нанесения фоторезиста

Модуль нанесения снабжен автоматической крышкой, которая закрывает чашу в процессе центрифугирования и создает атмосферу насыщенную парами растворителя. Данный функционал позволяет получить более однородный слой фоторезиста. Кроме того, модуль может быть дополнительно укомплектован системой удаления краевого валика и системой промывки обратной стороны пластины.

Для дозирования фоторезистов и других материалов модуль нанесения может оснащаться различными видами линий дозирования:

Автоматический шприцевой дозатор с объемом шприца 30 мл
Система дозирования из бутыли 1 л под давлением
Система дозирования вязких жидкостей на основе моторизированного шприца или насоса

Модуль сушки

Модуль сушки оснащен нагревательной поверхностью из анодированного алюминия. Для удобства загрузки пластин имеются загрузочные пины, проходящие сквозь нагреватель. Опционально модуль может быть оснащен системой напуска азота или праймера ГМДС под крышку. Поддерживаемые режимы сушки: жесткий с вакуумом, контактный, с зазором.

Для мелкосерийного производства

Простота в использовании и обслуживании, быстрая переналадка на новый технологический процесс делают данную установку оптимальной для использования в условиях мелкосерийного производства, научно-исследовательских институтов и лабораторий.