Химическая обработка
Главная /// Химическая обработка
Оборудование для полупроводникового кристального производства, реализующее процессы очистки, травления, снятия резиста, химической металлизации, сушки и прочих.
Установка жидкостной химической обработки WB
Предназначена для проведения жидкостной химической обработки в процессах производства полупроводников, оптики, MEMS и других.
Установка отмывки и сушки пластин vSRD
Установка предназначена для сушки полупроводниковых пластин методом центрифугирования после проведения операция химической обработки или травления.
Установка отмывки и сушки методом “Марангони” MRD
Установка предназначена для отмывки и сушки пластин методом «Марангони» после операций химической обработки. Процесс является особо чистым и исключает повреждение пластин при обработке за счет отсутствия движущихся частей в оборудовании.
Установка промывки и сушки пластин SRD
Установка предназначена для сушки полупроводниковых пластин методом центрифугирования после проведения операции химической обработки или травления.
