Установка отмывки и сушки пластин vSRD
Главная /// Химическая обработка /// Установка отмывки и сушки пластин vSRD
Установка предназначена для сушки полупроводниковых пластин методом центрифугирования после проведения операции химической обработки или травления.
Особенности
Диаметр обрабатываемых пластин до 100 мм
Проектирование центрифуги под кассеты Заказчика
Кнопка быстрого запуска повторяющегося процесса
Автоматическая крышка
Датчики сжатого воздуха и азота на входе в установку
Блокировка запуска процесса с открытой крышкой
Групповая обработка
Обработка пластин происходит в групповых кассетах. В ходе выполнения операции пластины сначала орошаются деионизованной водой, а после обдуваются потоком нагретого до температуры 75°С азота. Загрузка и выгрузка кассет с пластинами осуществляется вручную. Установка предназначена для работы в чистых помещениях класса 100.
Удобное управление на базе сенсорного дисплея
Управление установкой осуществляется с помощью встроенного микроконтроллера с сенсорным дисплеем. Программное обеспечение имеет простой и понятный интерфейс и позволяет задавать оператору различные рецепты обработки, которые включают в себя две стадии с индивидуальными значениями скорости центрифуги, времени обработки и температуры сушки.
Основные компоненты
Корпус, выполненный из полипропилена
Центрифуга, где происходит процесс обработки пластин;
Крышка, через которую осуществляется подача деионизованной воды и подогретого азота на пластины. Подъем и опускание крышки происходится автоматически;
Сенсорный дисплей, предназначенный для вывода информации о состоянии системы, задания режимов работы, а также для выполнения настроечных операций;
Лицевая панель, на которой расположены элементы индикации работы установки;
Передний отсек, где расположены пневматический и гидравлические блоки;
Задний отсек, где расположен электрический блок.
Центрифуга сушки
