Установка жидкостной химической обработки WB
Главная /// Химическая обработка /// Установка жидкостной химической обработки WB
Предназначена для проведения жидкостной химической обработки в процессах производства полупроводников, оптики, MEMS и других. Основные компоненты установок проектируются и изготавливаются на собственном производстве, позволяя адаптировать оборудование под конкретные задачи Заказчика.
Реализуемые процессы
Очистка SC-1/SC-2
Травление Al, Cr, Au, Pt
Проявление и снятие резиста
Взрывная литография
Гальваническое или химическое осаждение металлов Cu, Au, Ni, Pd
Обработка в органических растворителях
И другие
Разработана под Ваши задачи
Установки жидкостной химической обработки доступны в различных вариантах исполнения и могут быть адаптированы под требования конкретного технологического процесса. Каждый заказ тщательно прорабатывается нашими инженерами, определяется состав оборудования, проводится анализ используемых материалов на химическую совместимость.
Дополнительные компоненты
Центрифуги для нанесения и проявления фоторезиста
Термоплитки для сушки и задубливания фоторезиста
Центрифуги для отмывки и сушки пластин
Модуль сушки пластин методом Марангони
Блоки подачи и фильтрации растворов
Стандартное оснащение
Цельный сварной корпус из полипропилена для работы с кислотами и щелочами
Рабочая зона из нержавеющей стали для работы с органическими растворителями
Система вытяжной вентиляции
Поддон для локализации аварийных утечек
Регулируемый по высоте защитный прозрачный экран
Фторопластовые пистолеты для подачи азота и деионизованной воды
Состав ванн
Корпус ванны из PTFE, PVDF, PP и других материалов
Системы поддержания температуры с прямым и косвенным нагревом
Установки фильтрации растворов
Программируемые источники тока
Датчики измерения электропроводности, pH, Rx и прочие
Ультразвуковые генераторы
И другое оборудование